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Published:1980
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[J]. 1980, (4).
DOI:
[J]. 1980, (4). DOI:
现在
真空蒸镀高温氧化薄膜愈来愈多地引起人们的注意。但是
几乎所有高温氧化物薄膜在一定的成膜工艺条件下
都具有变折射率的特性
想得到折射率不变的均质薄膜是很困难的。为了在通常的蒸镀条件下
得到折射率较为稳定的高温氧化薄膜
我们在ZrO_2和La_2O_3膜料中掺入适量的Ta_2O_5粉末
用电子束加热混合膜料
只要充分预熔除气
就能基本上稳定折射率。实验是在DMD-450型镀膜机上进行的
用JT-75-1型椭圆仪测量了所镀薄膜的折射率和厚度。用EPS-3T型自动记录分光光度计测量了λ/4单层膜的分光曲线。下面仅就稳定ZrO_2和La_2O_3两种氧化物薄膜折射率的方法加以介绍: 1.ZrO_2薄膜在不加Ta_2O_5粉末的情况下
一般为折射率负变(折射率随膜厚的增加而减小)的膜层。我们给ZrO_2膜料里掺入Ta_2O_5
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