如何在镀膜过程中实行非λ/4膜系的厚度控制

目前已经成为大家所关心的问题。以往在镀制λ/4膜系时

用极值法控制膜层厚度比较普遍。这种方法操作简单

也具有一定的精度。沿用这种膜厚控制方式

来镀制非λ/4膜系

是有可能的。用极值法控制非λ/4膜系所要解决的问题

就是要对每层膜选择一个适当的控制波长

使得膜层逐渐沉积在控制基片上时

对这个波长的光的反射率正好在设计厚度上达到极值。我们编制了一个程序

用来寻找所要求的合适波长

并在各相应波长下

模拟了每层膜的镀膜过程(参见程序框图。由于反射率的计算已为大家所熟知

本程序中只将它作为一个过程

在框图中没有给出)。