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Published:1980
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[J]. 1980, (6): 25-27.
DOI:
[J]. 1980, (6): 25-27. DOI:
一、前言现行的真空镀膜工艺都采用离子轰击法
也就是在低真空条件下(10~(-2)~10~(-3)托)
用高压电场(2~5 kV)使钟罩内的气体分子电离
从而产生具有一定速度的离子流轰击待镀玻璃表面
起到除尘、去油、去气等作用。经
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