制备固体薄膜的方法很多

其中真空蒸发和溅射是两种主要的方法

电子工业的迅速发展刺激了溅射技术的发展。三极溅射和四极溅射的出现

使溅射薄膜的质量和再现性均有提高。高频溅射更把溅射技术提高到一个新的水平。溅射技术主要应用在电学薄膜中

近十年来

在溅射光学介质薄膜方面也做了一定的工作。