一、前言光学刻划所使用的刻层材料基本上有两类。以蜂蜡为主要材料的耐酸蚀刻蜡和以库马龙、真空封蜡、乳香、沥青等为主要材料的镀铬刻蜡属于第一类。Ag、Al、Bi、Sb_2S_3、Mg等金属介质膜刻层属于第二类。各种蜡质刻层在国内应用比较普遍。金属介质膜刻层虽然也具有良好的刻划性能

但尚未得到普遍应用。