前言在光学器件、电子器件以及磁性元件中

都经常使用双层介质膜和多层介质膜。这些膜往往直接决定着器件的结构和性能

双层膜和多层的研究可促进新型器件的发展。在国内、四川大学物理系林理彬副教授等首先用“双入射角二级近似法”

较精确地同时测定了双层复合介质膜的厚度和折射率。这里将介绍用等效基片等效光学常数法和等效基片等效菲涅尔系数法

在一个入射角下同时测定双层和多层介质膜的厚度和折射率

且可通