Status and Perspective of Optical Lithographic Technology for Very Large Scale Integration(VLSI)

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更新时间：2025-09-01

- Status and Perspective of Optical Lithographic Technology for Very Large Scale Integration(VLSI)
- Issue 1, (1991)
- 作者机构：
  
  1:河北大学电子系
- 作者简介：
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  CLC：
- Published：1991
- 稿件说明：
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Status and Perspective of Optical Lithographic Technology for Very Large Scale Integration(VLSI)[J]. 1991, (1).
DOI：

Status and Perspective of Optical Lithographic Technology for Very Large Scale Integration(VLSI)[J]. 1991, (1). DOI：

光学光刻是目前超大规模集成电路(VLSI)制备中主要的微米和亚微米的图形加工技术

这一技术将继续保持其主导地位成为90年代VLSI发展的关键。本文综述了近年来光学光刻工艺的发展

主要介绍了G线(436nm)、Ⅰ线(365nm)和准分子激光光刻的现状

并对实现高的光学光刻分辨率所必须解决的透镜设计、套准精度和像场面积等问题作了详细描述。最后展望了发展方向、

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