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1. 1:北京理工大学工程光学系
2. 2:北京理工大学工程光学系,100081
3. 3,100081
Published:1993
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A study on ion beam etching technique[J]. 1993, (5).
DOI:
A study on ion beam etching technique[J]. 1993, (5). DOI:
本文介绍了离子束刻蚀技术的原理
讨论了刻蚀速率与离子束流密度、离子能量和离子束入射角度的关系。实验结果与理论分析有较好的一致性。
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