Deposition of HfO  2/SiO  2 antireflective and high reflective optical thin film by plasma  IAD

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Deposition of HfO 2/SiO 2 antireflective and high reflective optical thin film by plasma IAD

更新时间：2025-09-01

- Deposition of HfO 2/SiO 2 antireflective and high reflective optical thin film by plasma IAD
- Issue 3, (1998)
- 作者机构：
  
  1:成都精密光学工程研究中心
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：1998
- 稿件说明：
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Deposition of HfO 2/SiO 2 antireflective and high reflective optical thin film by plasma IAD[J]. 1998, (3).
DOI：

Deposition of HfO 2/SiO 2 antireflective and high reflective optical thin film by plasma IAD[J]. 1998, (3). DOI：

本文报导了用等离子体辅助（Ｐｌａｓｍａ－ＩＡＤ）沉积技术沉积ＨｆＯ２／ＳｉＯ２减反及高反光学薄膜。在波长１０６４ｎｍ处，ＨｆＯ２／ＳｉＯ２减反膜透过率大于９９．５％，ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反膜反射率大于９９．５％。

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