ｉ线光刻物镜是对准光和光刻光的共孔径系统，要求对３６５．８ｎｍ和６３２．８ｎｍ双波长实现减反射。由于材料的限制，采用规则的１４膜堆的３层膜系很难保证３６５．８ｎｍ和６３２．８ｎｍ双波长的高效减反射特性，因此，只能采用非规则膜系结构。而对非规则膜系的镀制，一般可以采用石英晶振监控的方法。理论上，采用石英晶振监控可以得到很高的膜厚控制精度，但我们通过实验发现，结果并非如此。究其原因，我们认为这是由于石英晶振实际监测的是膜层的质量而并非膜层厚度，而在膜层质量相同时，膜层的厚度随蒸发速度，轰烤等工艺因素的不同而不同，这些工艺因素影响了石英晶振的实际控制精度。因此我们决定采用石英晶振结合光学极值监控的方法进行膜厚监控。在膜系设计中，采用两层非规则膜层加上一层规则的１４膜层的膜系结构。前面两层，采用石英晶振控制以充分利用石英晶振控制非规则膜厚精度较高的特点，而最后一层采用光学极值法，监控３６５．８ｎｍ处的反射信号，使其达到极小。在膜系的设计时，我们的设计使当３６５．８ｎｍ反射极小时，６３２．８ｎｍ处反射也位于极小值。为了增加膜层的牢固性以及抵抗环境变化的能力，膜层在镀制过程中要加热烘烤。我们用实验方法寻求到最佳的烘烤温?