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1:中国科学院上海光学精密机械研究所
Published:1998
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Study of replica technology via photopolymerization on PMMA substrate[J]. 1998, (6).
DOI:
Study of replica technology via photopolymerization on PMMA substrate[J]. 1998, (6). DOI:
本文通过测量PMMA基片在光致聚合反应法复制过程中的形变和收缩应力,由此对其产生的机理作了一定的理论分析。通过在凝胶化后施加一定的压力能够减小形变和收缩应力。本文不仅描述了采用二阶段加压法工艺复制的CD唱片,还描述了用SEM观察复制信息的微观形貌。
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