Measuring the thickness of SiO  2 film on glass substrate

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Measuring the thickness of SiO 2 film on glass substrate

更新时间：2025-09-01

- Measuring the thickness of SiO 2 film on glass substrate
- Issue 6, Pages: 37-39(1999)
- 作者机构：
  
  1. 1:深圳莱宝真空技术有限公司,广东,深圳,518034
  2. 2:秦皇岛莱成电子有限公司,河北,秦皇岛,066004
  3. 3:秦皇岛莱成电子有限公司,河北,秦皇岛,066004
  4. 4:秦皇岛莱成电子有限公司,河北,秦皇岛,066004
- 作者简介：
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- Published：1999
- 稿件说明：
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Measuring the thickness of SiO 2 film on glass substrate[J]. 1999, (6): 37-39.
DOI：

Measuring the thickness of SiO 2 film on glass substrate[J]. 1999, (6): 37-39. DOI：

摘要

钠钙玻璃基片在液晶显示器件（ＬＣＤ）等制造业中得到了广泛的应用。为防止基片中的碱金属离子扩散到器件的工作介质中，进而影响其化学稳定性和使用寿命，一般要在基片表面镀上一定厚度的ＳｉＯ２膜层，以便起到阻挡层的作用。基于Ｐ蚀刻剂对ＳｉＯ２膜层和基片有显著不同的蚀刻速度，提出了一种测量玻璃基片上的ＳｉＯ２膜层厚度的方法，即：利用表面轮廓仪，在测量三个不同的蚀刻数据后，计算出ＳｉＯ２膜层的厚度。以用射频溅射法制备的ＳｉＯ２膜层为样品进行了测量，具体的实验数据证实了该方法的可靠性和有效性

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