Fabrication of Laminar grating for synchrotron radiation

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更新时间：2025-09-01

- Fabrication of Laminar grating for synchrotron radiation
- Issue 5, Pages: 459-461(2001)
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230026
  2. 2:中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230026
  3. 3:中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230026
  4. 4:中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230026
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2001
- 稿件说明：
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Fabrication of Laminar grating for synchrotron radiation[J]. 2001, (5): 459-461.
DOI：

Fabrication of Laminar grating for synchrotron radiation[J]. 2001, (5): 459-461. DOI：

采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺

在熔石英基片上成功地刻蚀出 2 0 0l/mm、线空比 4:6、槽深 70nm、刻划面积 60× 2 0mm2 的浅槽矩形Laminar光栅。对改进光栅线条粗糙度和线空比的方法进行了系统的研究。这一新工艺相对简单

降低了对干涉系统光学元件和全息曝光显影的严格要求

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