Deposit ITO coatings on PMMA substrate by RF magnetic sputter

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更新时间：2025-09-01

- Deposit ITO coatings on PMMA substrate by RF magnetic sputter
- Issue 6, Pages: 501-502(2001)
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  2. 2:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  3. 3:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  4. 4:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130022
- 作者简介：
- 基金信息：
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- Published：2001
- 稿件说明：
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Deposit ITO coatings on PMMA substrate by RF magnetic sputter[J]. 2001, (6): 501-502.
DOI：

Deposit ITO coatings on PMMA substrate by RF magnetic sputter[J]. 2001, (6): 501-502. DOI：

利用射频磁控溅射技术在有机玻璃表面上一次完成表面活化、ITO膜制备、SiO2 减反射膜制备过程。利用低能等离子体对有机玻璃表面进行改性以提高ITO膜的附着力。研究了氧分压等工艺参数对ITO膜导电性能及光学性能的影响。

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