Researches on extreme ultraviolet multilayers fabrication

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

Researches on extreme ultraviolet multilayers fabrication

更新时间：2025-09-01

- Researches on extreme ultraviolet multilayers fabrication
- Issue 6, Pages: 532-534(2001)
- 作者机构：
  
  1. 1:同济大学物理系
  2. 2:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,上海,200092
  3. 3,吉林,长春,130022
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2001
- 稿件说明：
移动端阅览
Researches on extreme ultraviolet multilayers fabrication[J]. 2001, (6): 532-534.
DOI：

Researches on extreme ultraviolet multilayers fabrication[J]. 2001, (6): 532-534. DOI：

摘要

介绍了用平面磁控溅射方法制备极紫外多层膜的研究工作。围绕极紫外多层膜技术

重点探讨了多层膜膜厚定标和工艺过程对多层膜结构和内部成分的影响。为深入研究多层膜制备工艺指明了方向。

Abstract

关键词

Keywords

references

Views

277

下载量

CSCD

Alert me when the article has been cited

提交

Tools

Publicity Resources

The design and fabrication of multilayer mirrors in EUV region

Calibrating method of magnetron sputtering materials deposition rate

Study of transmittance gas sensitive SnO₂ thin film prepared by magnetic reactive sputtering

Study of ultraviolet and extreme ultraviolet phosphors for imaging detector

Wavelength calibration of EUV and soft X-ray monochromator measured by hollow cathode source

Related Author

缪同群

袁宏韬

赵伟

王风丽

陈玲燕

秦树基

王洪昌

张众

Related Institution

4:中国科学院研究生院

3:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

1:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

1:同济大学精密光学工程技术研究所

4:同济大学精密光学工程技术研究所

⁰