Gray-scale mask technique for microlens device of   integrated near-field optical head

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Gray-scale mask technique for microlens device of integrated near-field optical head

更新时间：2025-09-01

- Gray-scale mask technique for microlens device of integrated near-field optical head
- Issue 4, Pages: 291-292(2002)
- 作者机构：
  
  1. 1:华中科技大学计算机学院外存储系统国家专业实验室
  2. 2:华中科技大学计算机学院外存储系统国家专业实验室
  3. 3:华中科技大学计算机学院外存储系统国家专业实验室,湖北,武汉,430074
  4. 4,湖北,武汉,430074
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2002
- 稿件说明：
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Gray-scale mask technique for microlens device of integrated near-field optical head[J]. 2002, (4): 291-292.
DOI：

Gray-scale mask technique for microlens device of integrated near-field optical head[J]. 2002, (4): 291-292. DOI：

讨论了制作适用于近场集成光学头中的凸形、凹形微透镜和折衍射复合微透镜的灰度掩模技术。定性地给出了与几种典型的凸形、凹形微透镜和折衍射复合微透镜对应的灰度掩模版的设计实例

以及将它应用于光刻操作的情况

为采用灰度掩模技术制作适用于近场集成光学头中的微透镜器件奠定了基础。灰度掩模技术在微透镜器件的制作方面具有重要的应用前景

有助于简化制备工艺

降低制作成本

优化微透镜阵列的结构参数。

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