Studying and optimizing running mode and parameter of polishing tool  used in computer controlled polishing of optical surface

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Studying and optimizing running mode and parameter of polishing tool used in computer controlled polishing of optical surface

更新时间：2025-09-01

- Studying and optimizing running mode and parameter of polishing tool used in computer controlled polishing of optical surface
- Issue 3, Pages: 258-260(2003)
- 作者机构：
  
  1. 1:苏州大学现代光学技术研究所
  2. 2:苏州大学现代光学技术研究所,苏州,215006
  3. 3,苏州,215006
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2003
- 稿件说明：
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Studying and optimizing running mode and parameter of polishing tool used in computer controlled polishing of optical surface[J]. 2003, (3): 258-260.
DOI：

Studying and optimizing running mode and parameter of polishing tool used in computer controlled polishing of optical surface[J]. 2003, (3): 258-260. DOI：

对影响计算机数控抛光表面误差收敛速度的主要因素———磨头工作函数进行了详细的讨论。提出了以趋近因子作为评价磨头参数优化的参量。对目前流行的行星式磨头和平转动磨头分别作优化

给出了最佳参数组合

为提高计算机控制抛光的效率提供了理论依据。

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