Optical surfacing of flat reaction-burned silicon carbide mirror

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Optical surfacing of flat reaction-burned silicon carbide mirror

更新时间：2025-09-01

- Optical surfacing of flat reaction-burned silicon carbide mirror
- Issue 6, Pages: 667-668(2003)
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术中心
  2. 2:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术中心
  3. 3:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术中心
  4. 4:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术中心
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- Published：2003
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Optical surfacing of flat reaction-burned silicon carbide mirror[J]. 2003, (6): 667-668.
DOI：

Optical surfacing of flat reaction-burned silicon carbide mirror[J]. 2003, (6): 667-668. DOI：

摘要

介绍了100mm口径反应烧结碳化硅平面反射镜的光学加工工艺流程。按照流程依次介绍了在粗磨成形、细磨抛光和精磨抛光过程中使用的机床、磨具和磨料以及采用的工艺参数和检测方法。介绍了在光学加工各个步骤中应注意的问题。展示了加工后反应烧结碳化硅平面反射镜的实物照片。给出了面形精度和表面粗糙度的检测结果:面形精度(95%孔径)均方根值(RMS)为0.030λ(λ=632.8nm)

表面粗糙度RMS值达到了1.14nm(测量区域大小为603 6μmⅹ448 4μm)。

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