Design of 16×0.8nm silica on silicon arrayed waveguide grating

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Design of 16×0.8nm silica on silicon arrayed waveguide grating

更新时间：2025-09-01

- Design of 16×0.8nm silica on silicon arrayed waveguide grating
- Issue 6, Pages: 676-678(2004)
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心
  2. 2:中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心
  3. 3:中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心
  4. 4:中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心
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- Published：2004
- 稿件说明：
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Design of 16×0.8nm silica on silicon arrayed waveguide grating[J]. 2004, (6): 676-678.
DOI：

Design of 16×0.8nm silica on silicon arrayed waveguide grating[J]. 2004, (6): 676-678. DOI：

摘要

给出了更为合理的阵列波导光栅(AWG)的设计原则。在设计时兼顾了输出谱的非均匀性Lu和输出通道数N的要求

克服了设计中可能引起通道数N丢失和不考虑输出谱非均匀性Lu的缺点。用该方法设计了折射率差为0 75%和16×0 8nm的硅基二氧化硅AWG。采用广角有限差分束传播方法(FD BPM)对所设计的AWG进行了输出谱的模拟

得到了插损为 1.5dB、串扰为 48dB、通道非均匀性约为1dB的AWG

设计指标达到了商用要求。

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