Deposition simulation of optical monitoring based on the strategy of changing witness chips

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Deposition simulation of optical monitoring based on the strategy of changing witness chips

更新时间：2025-09-01

- Deposition simulation of optical monitoring based on the strategy of changing witness chips
- Issue 2, Pages: 266-268(2005)
- 作者机构：
  
  1. 1:华中光电技术研究所
  2. 2:华中光电技术研究所,湖北,武汉,430074
  3. 3,湖北,武汉,430074
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2005
- 稿件说明：
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Deposition simulation of optical monitoring based on the strategy of changing witness chips[J]. 2005, (2): 266-268.
DOI：

Deposition simulation of optical monitoring based on the strategy of changing witness chips[J]. 2005, (2): 266-268. DOI：

摘要

在极值法光学膜厚监控中

使用多少监控片且何时更换(即监控片更换策略)在一定程度上是该膜系镀制成功与否的一个关键因素。分析了在反射式极值法光学监控中监控片更换策略的数值模型。根据大量的实验得到的工艺参数

在不同过正控制量下首次进行了监控片更换策略优化的沉积仿真模拟。结果表明:在多腔结构膜系的沉积过程中存在着"假性"极值

容易导致某些膜层厚度的严重误差。不同的过正控制量对光学监控效果会产生明显地影响;所给定的过正控制量存在着最佳的监控片更换策略;合适的变过正控制量可进一步改善薄膜的光学性能。

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