Research of fabrication muti-levels grating based on gray-slot scanning

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Research of fabrication muti-levels grating based on gray-slot scanning

更新时间：2025-09-01

- Research of fabrication muti-levels grating based on gray-slot scanning
- Issue 2, Pages: 190-192(2005)
- 作者机构：
  
  1. 1:苏州大学信息光学工程研究所
  2. 2:苏州大学信息光学工程研究所
  3. 3:苏州大学信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006
  4. 4,江苏,苏州,215006
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2005
- 稿件说明：
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Research of fabrication muti-levels grating based on gray-slot scanning[J]. 2005, (2): 190-192.
DOI：

Research of fabrication muti-levels grating based on gray-slot scanning[J]. 2005, (2): 190-192. DOI：

摘要

采用灰度狭缝进行矢量化的直写

使平台沿着垂直狭缝的方向运动

获得了具有台阶结构的光栅槽型

编写了与DXF文件一致的接口直写控制程序。该方法对成像视场要求低

可以制作大面积光栅。以色分离光栅(CSG)为例

用标量衍射理论分析了CSG的衍射效率

讨论了工艺制作误差对衍射效率的影响

并给出了初步的实验结果。

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