Evolvement model of photoresist spin coating thickness on spherical surface

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

Evolvement model of photoresist spin coating thickness on spherical surface

更新时间：2025-09-01

- Evolvement model of photoresist spin coating thickness on spherical surface
- Issue 4, Pages: 489-490(2005)
- 作者机构：
  
  1. 1:长春光学精密机械与物理研究所
  2. 2:长春光学精密机械与物理研究所吉林长春　130033中国科学院研究生院北京,100039
  3. 3,吉林,长春,130033
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2005
- 稿件说明：
移动端阅览
Evolvement model of photoresist spin coating thickness on spherical surface[J]. 2005, (4): 489-490.
DOI：

Evolvement model of photoresist spin coating thickness on spherical surface[J]. 2005, (4): 489-490. DOI：

摘要

提出了球面旋涂微米级厚度光刻胶膜层薄化率公式及径向位置演变公式

并得到了膜厚分布的演变公式。与平面涂胶相比

球面涂胶离心力及重力分量是在不断的变化。根据平面旋涂运动方程及球面面形特征

给出了球面旋涂运动方程;结合流体层流的表面条件及不可压缩流体的质量连续方程

推导出了膜厚h及径向位置r对时间t的演变公式

并得到了在径向位置r处初始厚度为h0的膜厚演变的数学模型。通过对模型参数的分析可知

球面旋涂光刻胶应采用主从轴偏心旋涂

旋涂时工件的开口应朝向侧面(旋转轴水平)。

Abstract

关键词

Keywords

references

Views

341

下载量

CSCD

Alert me when the article has been cited

提交

Tools

Publicity Resources

Design and fabrication method of dynamic display film based on microlens array

Formulation for simulating the bi-layer attenuated phase shift contact hole diffraction in lithography

Design of laser beam uniformity based on light-guide wall in seamless scanning lithography

Analysis on the main difficult points of machining optical parts

Digital diffraction optical variable image device storage system and its applications

Related Author

谢志梅

董小春

王德麾

姜世平

刘丽辉

刘克

李艳秋

杨亮

Related Institution

2:四川芯辰光微纳科技有限公司

1:四川云盾光电科技有限公司

1:北京理工大学光电学院

2:广东工业大学物理与光电工程学院

1:广东工业大学实验教学部

⁰