Study of heterodyne ellipsometry for nanometer film measurement

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Study of heterodyne ellipsometry for nanometer film measurement

更新时间：2025-09-01

- Study of heterodyne ellipsometry for nanometer film measurement
- Issue 3, Pages: 391-393(2005)
- 作者机构：
  
  1. 1:天津大学精密仪器学院激光及光电子研究所
  2. 2:天津大学精密仪器学院激光及光电子研究所
  3. 3:深圳大学工程技术学院
  4. 4:深圳大学工程技术学院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2005
- 稿件说明：
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Study of heterodyne ellipsometry for nanometer film measurement[J]. 2005, (3): 391-393.
DOI：

Study of heterodyne ellipsometry for nanometer film measurement[J]. 2005, (3): 391-393. DOI：

摘要

结合激光外差干涉法和透射式椭偏测量原理

研究了一种快速、高精度测量纳米厚度薄膜光学参数的方法。计算并分析了复灵敏度因子随薄膜参数和入射角度的变化规律、椭偏参数的选择及容许测量误差。两个声光调制器产生20kHz的拍频

采用简单的直接比相方法即可获得优于0.1°的相位分辨率

而且测量系统中没有使用任何波片和运动部件

抗干扰能力强且测量过程完全自动化

适用于工业现场在线连续测量。实验数据和理论分析表明

此方法可以达到亚纳米级测量精度。

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