Calibrating method of magnetron sputtering materials deposition rate

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Calibrating method of magnetron sputtering materials deposition rate

更新时间：2025-09-01

- Calibrating method of magnetron sputtering materials deposition rate
- Issue 4, Pages: 537-539(2005)
- 作者机构：
  
  1. 1:同济大学精密光学工程技术研究所
  2. 2:同济大学精密光学工程技术研究所
  3. 3:同济大学精密光学工程技术研究所
  4. 4:同济大学精密光学工程技术研究所
- 作者简介：
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  CLC：
- Published：2005
- 稿件说明：
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Calibrating method of magnetron sputtering materials deposition rate[J]. 2005, (4): 537-539.
DOI：

Calibrating method of magnetron sputtering materials deposition rate[J]. 2005, (4): 537-539. DOI：

摘要

介绍了一种利用磁控溅射制备多层膜速率的定标方法。用高精度磁控溅射镀膜设备在同一块基片上先后镀制了两种周期的多层膜

用X射线衍射仪对其进行掠入射衍射测量

测量数据经线性拟合

可同时求得两种多层膜的周期

进而得到镀膜速率。与常用的定标方法相比

该方法不仅可以得到与常用定标方法相同的实验结果

而且提高了工作效率。

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