Research on measuring technique for surface uniformity of the ultraviolet ICCD detector

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更新时间：2025-09-01

- Research on measuring technique for surface uniformity of the ultraviolet ICCD detector
- Issue 6, Pages: 886-888(2008)
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
  2. 2:中国科学院研究生院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2008
- 稿件说明：
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Research on measuring technique for surface uniformity of the ultraviolet ICCD detector[J]. 2008, (6): 886-888.
DOI：

Research on measuring technique for surface uniformity of the ultraviolet ICCD detector[J]. 2008, (6): 886-888. DOI：

以辐射度学为理论基础

研究了紫外ICCD(UV-ICCD)面的响应均匀性测试技术。论述了200～300nm UV-IOED面均匀性的测试方案。使用入射口径为100μm的光谱仪对UV-ICCD靶面处的均匀性进行了测试。测试结果表明

靶面处辐照度场的不均匀性不高于1.6%。在对靶面处的均匀性进行测试的基础上

对UV-ICCD面的均匀性进行了实际测量

并进行了不确定度分析。结果表明

该方案可应用于UV-ICLD光电探测器件的面均匀性测量。

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