Research of whetting and polishing characteristic of high pure quartz glass

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更新时间：2025-09-01

- Research of whetting and polishing characteristic of high pure quartz glass
- Vol. 34, Issue S1, Pages: 278-280(2008)
- 作者机构：
  
  1:中国建筑材料科学研究总院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2008
- 稿件说明：
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Research of whetting and polishing characteristic of high pure quartz glass[J]. 2008, 34(S1): 278-280.
DOI：

Research of whetting and polishing characteristic of high pure quartz glass[J]. 2008, 34(S1): 278-280. DOI：

介绍了高纯石英玻璃的研抛特性。从石英玻璃的内部结构、硬度、微裂纹、表面结构等几方面分析了石英玻璃的物理特性

并与K9光学玻璃进行了对比。通过研究两者被抛光表面的显微图像

分析其产生的原因

结果表明

高纯石英玻璃研抛去除速度慢、表面质量高。

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