Preparation of SiO<sub>2</sub>/TiO<sub>2</sub> thin films and study of its visible transmittance

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Preparation of SiO₂/TiO₂ thin films and study of its visible transmittance

更新时间：2025-09-01

- Preparation of SiO₂/TiO₂ thin films and study of its visible transmittance
- Vol. 35, Issue 4, Pages: 513-516(2009)
- 作者机构：
  
  1. 1:军械工程学院光学与电子工程系
  2. 2:解放军66481部队
  3. 3:军械工程学院弹药工程系
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：2009
- 稿件说明：
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Preparation of SiO₂/TiO₂ thin films and study of its visible transmittance[J]. 2009, 35(4): 513-516.
DOI：

Preparation of SiO₂/TiO₂ thin films and study of its visible transmittance[J]. 2009, 35(4): 513-516. DOI：

摘要

采用溶胶凝胶法在载波片上制备了SiO2/TiO2复合薄膜。研究了TiO2含量、热处理温度、热处理时间、薄膜层数及溶胶陈化时间对其可见光透过率的影响。结果表明:复合薄膜的可见光透过率随TiO2含量的增加而降低;当TiO2含量为20%时

薄膜会出现"变白"现象;当热处理温度为80℃时

透过率最高;当TiO2含量为30%时

溶胶陈化时间为3天

镀膜两次

80℃/3h热处理所得到的薄膜透过率可达到基体的100%

耐磨性良好。初步检测显示

该薄膜具有一定的光催化活性。

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