Synchrotron radiation scanning mirror control system   for integrate circuit lithography

doi:10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.02.028

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Synchrotron radiation scanning mirror control system for integrate circuit lithography

更新时间：2025-09-01

- Synchrotron radiation scanning mirror control system for integrate circuit lithography
- Issue 2, Pages: 179-180(2000)
- 作者机构：
  
  1. 1:中国科学技术大学电子科学与技术系,安徽,合肥,230026
  2. 2:中国科学技术大学电子科学与技术系,安徽,合肥,230026
  3. 3:中国科学技术大学电子科学与技术系,安徽,合肥,230026
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.02.028
  CLC：
- Published：2000
- 稿件说明：
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Synchrotron radiation scanning mirror control system for integrate circuit lithography[J]. 2000, (2): 179-180.
DOI：

Synchrotron radiation scanning mirror control system for integrate circuit lithography[J]. 2000, (2): 179-180. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.02.028.

摘要

在进行大规模集成电路光刻时

采用同步辐射光源是一项新技术。本文介绍了同步辐射光刻镜扫描控制系统。通过提高光刻镜扫描的控制精度和优选扫描振动频率

能够改善光栅的均匀度

以满足曝光的需要

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