Technology of spectral hole burning

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更新时间：2025-09-01

- Technology of spectral hole burning
- Issue 4, Pages: 379-382(2000)
- 作者机构：
  
  1. 1:华南理工大学应用物理系,广东,广州,510641
  2. 2:华南师范大学物理系,广东,广州,510631
  3. 3:华南师范大学物理系,广东,广州,510631
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.04.030
  CLC：
- Published：2000
- 稿件说明：
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Technology of spectral hole burning[J]. 2000, (4): 379-382.
DOI：

Technology of spectral hole burning[J]. 2000, (4): 379-382. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2000.04.030.

论述了光谱烧孔技术的动力学理论模型 ;介绍了单光子烧孔和多光子烧孔所取得的实验结果 ;讨论了光谱烧孔的发展趋势 :提高烧孔度

实现室温烧孔和提高探测及读出时的信噪比。问题的关键在于光致填孔机制的研究。同时提出将它投入实际应用亟待解决的问题

即作为一种可能的高密度频域光信息存储手段所亟待解决的问题是开发适应于此技术的新材料

深入研究材料体系的烧扎特性

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