Research of laser damage of ZrO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub> Sol-Gel thin film

doi:10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2010.02.007

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Research of laser damage of ZrO₂/SiO₂ Sol-Gel thin film

更新时间：2025-09-01

- Research of laser damage of ZrO₂/SiO₂ Sol-Gel thin film
- Vol. 36, Issue 2, Pages: 311-314(2010)
- 作者机构：
  
  1. 1:光电系统信息控制技术国家重点实验室
  2. 2:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2010.02.007
  CLC：
- Published：2010
- 稿件说明：
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Research of laser damage of ZrO₂/SiO₂ Sol-Gel thin film[J]. 2010, 36(2): 311-314.
DOI：

Research of laser damage of ZrO₂/SiO₂ Sol-Gel thin film[J]. 2010, 36(2): 311-314. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2010.02.007.

摘要

采用溶胶-凝胶工艺分别制备了SiO2和ZrO2单层薄膜、ZrO2/SiO2双层膜以及ZrO2/SiO2多层高反膜。用输出波长为1064nm、脉宽为6.3ns的YAG激光器对薄膜进行了激光损伤实验。观察了薄膜经强激光辐照后的损伤情况

讨论了薄膜的激光损伤行为

并从理论上分析了产生这些损伤的原因

为进一步镀制高质量的ZrO2/SiO2多层高反膜提供了依据。

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DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2010.02.007

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