Design and realization of automatic exposure of TDX-200 transmission electron microscopy

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更新时间：2025-09-01

- Design and realization of automatic exposure of TDX-200 transmission electron microscopy
- Vol. 38, Issue 4, Pages: 431-434(2012)
- 作者机构：
  
  1. 1:北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院微纳测控与低维物理教育部重点实验室
  2. 2:精密光机电一体化技术教育部重点实验室
  3. 3:国家"惯性技术"重点实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2012.04.011
  CLC：
- Published：2012
- 稿件说明：
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Design and realization of automatic exposure of TDX-200 transmission electron microscopy[J]. 2012, 38(4): 431-434.
DOI：

Design and realization of automatic exposure of TDX-200 transmission electron microscopy[J]. 2012, 38(4): 431-434. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2012.04.011.

通过分析透射电子显微镜的曝光机理

得出了荧光屏亮度与曝光时间之间的关系表达式。设计了TDX-200透射电子显微镜自动曝光电路

并通过实验对自动曝光参数进行了标定。通过对多种实际样品在不同工作模式下进行自动曝光试验

得到了相对清晰的电子显微像。结果表明

TDX-200透射电子显微镜自动曝光的设计满足要求。

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