Two formulization on retardation of the waveplate with oblique incidence

doi:10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2013.06.017

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Two formulization on retardation of the waveplate with oblique incidence

更新时间：2025-09-01

- Two formulization on retardation of the waveplate with oblique incidence
- Vol. 39, Issue 6, Pages: 559-564(2013)
- 作者机构：
  
  1:北京理工大学光电学院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2013.06.017
  CLC：
- Published：2013
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Two formulization on retardation of the waveplate with oblique incidence[J]. 2013, 39(6): 559-564.
DOI：

Two formulization on retardation of the waveplate with oblique incidence[J]. 2013, 39(6): 559-564. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2013.06.017.

摘要

作为常见的偏振光学元件之一的波片

如1/4波片、1/2波片和全波片

被广泛应用于高数值孔径(NA)成像系统(偏光显微镜和浸没式光刻机)的偏振检测技术中。随着系统NA的日益增大

正确分析和精确计算大角度斜入射光波经过波片后产生的相位延迟变得至关重要。目前的分析方法主要是基于电磁波传播理论和光线追迹法两种。由于前人在使用上述两种方法时

不仅计算过程较为复杂

没有最终表达式

而且计算结果存在较大的差异。首先推导波片中e光波法线的折射率表达式

然后再推导e光光线的折射率表达式

最后分别利用电磁波传播理论和光线追迹法导出斜入射光波通过波片后的o光与e光之间的相位延迟。计算结果显示

利用这两种方法得到的相位延迟最终表达式完全一致。准确地描述了波片的相位延迟特性

为波片的设计和误差分析提供了严格的理论依据

具有重要的理论意义和应用价值。

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