A method of tolerance analysis for wavefront error of lithographic projection lens

doi:10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.04.001

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A method of tolerance analysis for wavefront error of lithographic projection lens

更新时间：2025-09-01

- A method of tolerance analysis for wavefront error of lithographic projection lens
- Vol. 40, Issue 4, Pages: 289-294(2014)
- 作者机构：
  
  1:北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.04.001
  CLC：
- Published：2014
- 稿件说明：
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A method of tolerance analysis for wavefront error of lithographic projection lens[J]. 2014, 40(4): 289-294.
DOI：

A method of tolerance analysis for wavefront error of lithographic projection lens[J]. 2014, 40(4): 289-294. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2014.04.001.

摘要

为保证投影光刻物镜的成像性能并降低制造成本

提出了一种更全面可靠的公差分析方法。该方法在以波像差均方根(RMS)值作为评价标准的传统分析方法基础上

添加波像差峰谷(P-V)值作为评价指标

并据此选择合理的补偿器组合。在系统波像差的RMS值和P-V值均满足要求的情况下

采用了较少的补偿器

从而有效地降低了系统的制造难度和成本。结合实验室设计的一套90nm投影光刻物镜进行了公差分析和补偿器优选。结果表明

利用该方法选择的7个补偿器

使得系统在97.7%置信区间内

全视场波像差的RMS值≤0.0412λ

P-V值≤0.2469λ

满足了90nm投影光刻物镜的像质要求。

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