Study on the influence of magnetic circuit defect on objective lens performance

doi:10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2015.01.017

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Study on the influence of magnetic circuit defect on objective lens performance

更新时间：2025-09-01

- Study on the influence of magnetic circuit defect on objective lens performance
- Vol. 41, Issue 1, Pages: 81-84(2015)
- 作者机构：
  
  1. 1:微纳测控与低维物理教育部重点实验室
  2. 2:国家"惯性技术"重点实验室
  3. 3:北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2015.01.017
  CLC：
- Published：2015
- 稿件说明：
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Study on the influence of magnetic circuit defect on objective lens performance[J]. 2015, 41(1): 81-84.
DOI：

Study on the influence of magnetic circuit defect on objective lens performance[J]. 2015, 41(1): 81-84. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2015.01.017.

摘要

基于TDX-200透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope

TEM)

利用ANSYS软件仿真物镜磁路存在空隙、凹陷、凸起缺陷时物镜轴上的磁场分布

在此基础上利用MEBS软件仿真物镜激励、球差系数等性能参数

分析了各磁路缺陷对物镜分辨率的影响。结果表明

在相同加速电压下

相对于空隙缺陷、凸起缺陷对物镜分辨率的影响

凹陷缺陷对物镜分辨率的影响最大。在200k V加速电压下

当物镜存在直径为0.5mm的半圆形凹陷环缺陷时

实际分辨率相对于理想分辨率的变化量可达到9.68%。

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