Optimization technology of liquid float polishing

doi:10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2019.02.023

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Optimization technology of liquid float polishing

更新时间：2025-09-01

- Optimization technology of liquid float polishing
- Vol. 45, Issue 2, Pages: 251-256(2019)
- 作者机构：
  
  1:西安工业大学陕西省光学先进制造工程技术研究中心
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2019.02.023
  CLC：
- Published：2019
- 稿件说明：
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Optimization technology of liquid float polishing[J]. 2019, 45(2): 251-256.
DOI：

Optimization technology of liquid float polishing[J]. 2019, 45(2): 251-256. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2019.02.023.

摘要

一种新的光学元件表面抛光工艺—液浮抛光技术

采用具有剪切增稠效应的非牛顿流体作为抛光液

流体在抛光区域形成液膜

实现对工件表面高效、低损伤的加工。以材料去除量以及工件表面粗糙度作为评价指标

利用正交实验法对K9玻璃抛光过程中的四个关键影响因素:磨粒质量分数、磨头入口压强、磨头重力、剪切增稠相中分散相的质量分数进行实验分析

得到一组最优参数组合以及各主要影响因素对抛光效果的影响程度。对于工件表面粗糙度

采用极差法得出各因素对整个工件的影响程度的主次顺序为(主→次):二氧化硅质量分数、磨头重力、入口压强、磨粒质量分数

最佳参数组合为:磨粒氧化铈质量分数为14%

入口压强为0.3MPa

剪切增稠相中分散相二氧化硅质量分数为9%

磨头重力为34.3kg;对于材料去除量分布

经过90min的抛光

其平均去除量为0.2μm。

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