Numerical analysis of the formation mechanism of shear force field in the entrance zone of magnetorheological polishing

doi:10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2022.02.002

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Numerical analysis of the formation mechanism of shear force field in the entrance zone of magnetorheological polishing

更新时间：2025-09-01

- Numerical analysis of the formation mechanism of shear force field in the entrance zone of magnetorheological polishing
- Vol. 48, Issue 2, Pages: 153-158(2022)
- 作者机构：
  
  1. 1:遵义师范学院工学院
  2. 2:中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
  3. 3:华中光电技术研究所武汉光电国家实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2022.02.002
  CLC： TH74
- Published：2022
- 稿件说明：
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Numerical analysis of the formation mechanism of shear force field in the entrance zone of magnetorheological polishing[J]. 2022, 48(2): 153-158.
DOI：

Numerical analysis of the formation mechanism of shear force field in the entrance zone of magnetorheological polishing[J]. 2022, 48(2): 153-158. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2022.02.002.

摘要

平面光学元件的浸入深度、凸球面光学元件的浸入深度、凸球面光学元件的曲率半径不同会使磁流变抛光入口区域剪切力场发生变化。为了研究磁流变抛光入口区域剪切力场的形成机制，建立磁流变抛光过程中必要的流体模型，对入口区域的几何特征进行分析；通过数值计算平面光学元件不同浸入深度、凸球面光学元件不同浸入深度、凸球面光学元件不同曲率半径的影响，得到对应的剪切力分布。得出结论，当平面光学元件一定浸入深度逐渐增加时，抛光区域入口处的剪切力逐渐增大；当凸球面光学元件的一定浸入深度逐渐增加时，抛光区域入口处的剪切力逐渐增大；凸球面光学元件的曲率半径对剪切力无显著影响，不同曲率半径下的剪切力分布大致相同。

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