Study on damage threshold of antireflection film induced by artificial impurity

doi:10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2024.01.016

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Study on damage threshold of antireflection film induced by artificial impurity

更新时间：2025-09-01

- Study on damage threshold of antireflection film induced by artificial impurity
- Vol. 50, Issue 1, Pages: 24-29(2024)
- 作者机构：
  
  1. 1:江南大学理学院
  2. 2:江苏省轻工光电工程技术研究中心
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2024.01.016
  CLC： TB383.2;TN249
- Published：2024
- 稿件说明：
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Study on damage threshold of antireflection film induced by artificial impurity[J]. 2024, 50(1): 24-29.
DOI：

Study on damage threshold of antireflection film induced by artificial impurity[J]. 2024, 50(1): 24-29. DOI： 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2024.01.016.

摘要

为研究杂质大小对增透膜激光损伤阈值(LIDT)影响，利用光刻技术在熔石英基底表面设置厚度为100nm不同直径大小的柱状金属Al“杂质吸收点”

然后在此基础上沉积增透膜。通过Comsol模拟仿真了解损伤过程，并利用532nm纳秒激光器进行阈值测试，对实验数据与样品损伤形貌进行分析，结果表明杂质直径为50um、100um、200um、300um、400um的薄膜损伤阈值分别为18.93J/cm~2

18.62J/cm~2

17.11J/cm~2

15.28J/cm~2

13.47J/cm~2

呈非线性下降，“杂质吸收点”吸收光能产生热量，传导于增透膜层后产生的轴向热应力超过了薄膜的拉伸强度是膜层损伤的主因。

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