随着半导体集成电路、平板显示、光伏太阳能等技术的发展，在红外波段具有优良光学特性的薄膜材料被广泛应用，而薄膜厚度的高精度测量将直接对器件的加工质量产生影响。光谱椭偏技术是一种非接触式、高精度的薄膜测量技术，是其检测的最好手段。但现有光谱椭偏仪主要集中在可见-近红外波段，无法满足中红外光学薄膜的测量要求。为此，提出一种采用傅里叶光谱分光模式和多方位补偿器相结合的红外光谱椭偏薄膜测量技术。结合椭偏测量理论，通过搭建傅里叶红外光谱椭偏仪实现2100～3200nm波段范围内不同厚度Si基SiO_2标准薄膜样品的测量。结果显示，薄膜厚度测量精度优于±0.5nm

重复性测量精度优于0.07nm

全谱段单次单点测量时间约1min。