光学薄膜设计技术的发展越来越需要具有各种折射率的光学材料

同时也非常需要具有预定折射率分布的非均匀薄膜。为满足上述需要

目前可采用下列几种方法: (a)用两个或多个精细控制的热源同时进行蒸发; (b)用单个热源蒸发混合物; (c)交错淀积两种不同材料的薄膜; (d)控制氧化条件

反应淀积SiO_x薄膜。然而

所有这些方法或者是需要复杂的设备和精细的镀制技术

或者是不易获得重复性良好的薄膜

或者是不能在多块基片上同时镀制

因而都还处于实验室研究的阶段。例如

图1所示的

用四个热源进行同时蒸发的装置就需