一、引言在真空镀膜中基板的清洁处理是直接影响薄膜质量的关键之一。实验表明

轰击处理能大大提高薄膜与基板的结合力。例如

不经轰击而镀制的单层ZnS膜往往在水中浸几分钟就会漂浮脱落

而轰击后五分钟内蒸镀的同一膜层可在水中经久不脱。功率较大的轰击甚至能去除基板表面的手指印。