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纸质出版:1983
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范正修. 光学薄膜厚度的均匀性[J]. 光学技术, 1983,(1):11-14.
范正修. 光学薄膜厚度的均匀性[J]. 光学技术, 1983,(1):11-14. DOI:
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光学薄膜厚度的均匀性
是薄膜制备技术中最重要的问题之一。这是因为
光学薄膜的性质
在很大程度上取决于它的厚度。在工作范围内薄膜厚度没有足够的均匀性
就无法获得优质的光学薄膜。有关膜厚分布问题
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