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纸质出版:1984
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王冬香, 王安利. 正性光刻胶制作光学分划图形技术[J]. 光学技术, 1984,(4):13-14.
王冬香, 王安利. 正性光刻胶制作光学分划图形技术[J]. 光学技术, 1984,(4):13-14. DOI:
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光刻胶是为适应集成电路的需要而发展起来的一种胶种
有正性和负性二种类型。迄今为止
光学分划元件大部分仍沿用负性胶。最近我们在制作的光学零件分划图形中
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