一、微分法膜控技术的原理微分法膜控技术是以经典的光电极值法为基础、并作了改进和发展的一种膜控方法。虽然光电极值法也可以用补偿的方法增加读数的相对变化量

在理想情况下

镀膜速度较慢时

控制鉴别率也可达到0.2%光度值

但是由于工艺因素的影响

补偿倍率通常为2～4倍

不宜用得太大

这就使实际控制鉴别率为0.5～1%光度值。当入射介质为n_3时

在折射率为n_1的基片上

镀有折射率为n

厚度为d的膜层后

透过率T与膜厚的关系可由费涅尔公式近似表