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纸质出版:1985
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K.P.Vijayakumar, C.Purushothaman, 王显厚. 退火对银膜反射率的影响[J]. 光学技术, 1985,(1):18-19.
K.P.Vijayakumar, C.Purushothaman, 王显厚. 退火对银膜反射率的影响[J]. 光学技术, 1985,(1):18-19. DOI:
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一、引言退火对于银膜结构的影响
已经被人们广泛地研究。大家观察到的结果
主要是在薄膜表面会出现凝结成团或发生异常变态——小丘的生长。凝结成团的尺寸
随温度增加而加大
当温度达到一个特殊的数值
即0.59T时
小丘的尺寸达到最大值(T代表银的熔融温度)。这种现象过去是用缓慢的结晶位相迁移来说明的。Chopra曾发现温度加热到100℃时
影响最严重。这与Czanderna报导的结果相吻合。根据Hunderi的解释
在薄膜表面发生的这些变化
都可能对银膜的光学特性产生很大影响。本文的目的就在于试验这种变化对银膜光反射
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