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纸质出版:1986
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宋希明, 董连和, 张国玉, 等. 用302负型光刻胶刻制光学度盘[J]. 光学技术, 1986,(4):29-31.
宋希明, 董连和, 张国玉, 等. 用302负型光刻胶刻制光学度盘[J]. 光学技术, 1986,(4):29-31. DOI:
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一、引言刻制光学度盘
一般采用刻划镀铬工艺
如果批量大
则可采用先用刻划的方法制得母版
再用虫胶镀铬工艺进行大量复制。可是
对于图1所示的度盘就无法用刻划镀铬的工艺来完成它
因为两圈圆刻线太宽了。显然
采用光刻的办法
就能比较方便地完成此任务。
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