目前氦氖激光所用的高反射膜和部分反射膜是在高真空条件下用ZnS、MgF_2两种介质材料交替镀制而成的。每层厚度为其反射波长数值的四分之一。监控方法一般是采用极值法

即在蒸镀每种材料时

当反映其厚度变化的光电信号透过值达到最大(MgF_2)或最小(ZnS)值时

其蒸镀厚度即为该波长的四分之一

应立即截止蒸镀。