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1:河北大学电子系
纸质出版:1991
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宋登元. 超大规模集成电路光学光刻技术的现状与展望[J]. 光学技术, 1991,(1).
Status and Perspective of Optical Lithographic Technology for Very Large Scale Integration(VLSI)[J]. 1991, (1).
宋登元. 超大规模集成电路光学光刻技术的现状与展望[J]. 光学技术, 1991,(1). DOI:
Status and Perspective of Optical Lithographic Technology for Very Large Scale Integration(VLSI)[J]. 1991, (1). DOI:
光学光刻是目前超大规模集成电路(VLSI)制备中主要的微米和亚微米的图形加工技术
这一技术将继续保持其主导地位成为90年代VLSI发展的关键。本文综述了近年来光学光刻工艺的发展
主要介绍了G线(436nm)、Ⅰ线(365nm)和准分子激光光刻的现状
并对实现高的光学光刻分辨率所必须解决的透镜设计、套准精度和像场面积等问题作了详细描述。最后展望了发展方向、
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