添加剂在氧化铈抛光中的作用机理的探索

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添加剂在氧化铈抛光中的作用机理的探索

更新时间：2025-09-01

- 添加剂在氧化铈抛光中的作用机理的探索
- Investigation of mechanism of additive in CeO polishing process
- 光学技术 1991年第3期
- 作者机构：
  
  1:南京华东工学院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1991
- 稿件说明：
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林鸿海. 添加剂在氧化铈抛光中的作用机理的探索[J]. 光学技术, 1991,(3).

Investigation of mechanism of additive in CeO polishing process[J]. 1991, (3).
林鸿海. 添加剂在氧化铈抛光中的作用机理的探索[J]. 光学技术, 1991,(3). DOI：

Investigation of mechanism of additive in CeO polishing process[J]. 1991, (3). DOI：

本文在试验基础上

对添加剂在氧化铈抛光中作用机理—提高氧化铈抛光效率的机理和防止玻璃抛光表面腐蚀的机理作了探索

指出在一定的抛光工艺条件下

每一种添加剂对于一定品位的氧化铈和一定牌号的光学玻璃有一最佳的加入量。

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