新型抛光机“LP—1000”的机理分析与抛光模制作工艺

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更新时间：2025-09-01

- 新型抛光机“LP—1000”的机理分析与抛光模制作工艺
- Mechanical Analysis of Novel Buffing Machine Type LP—1000 and Manufacturing process of Buffing die
- 光学技术 1992年第2期
- 作者机构：
  
  1. 1:西安西北光学仪器厂
  2. 2:西安西北光学仪器厂
  3. 3:西安西北光学仪器厂,西安,710043
  4. 4,西安,710043
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1992
- 稿件说明：
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金琦玢, 李渡进, 刘礼群. 新型抛光机“LP—1000”的机理分析与抛光模制作工艺[J]. 光学技术, 1992,(2).

Mechanical Analysis of Novel Buffing Machine Type LP—1000 and Manufacturing process of Buffing die[J]. 1992, (2).
金琦玢, 李渡进, 刘礼群. 新型抛光机“LP—1000”的机理分析与抛光模制作工艺[J]. 光学技术, 1992,(2). DOI：

Mechanical Analysis of Novel Buffing Machine Type LP—1000 and Manufacturing process of Buffing die[J]. 1992, (2). DOI：

随着我国现代科学技术的发展

特别是激光技术、微电子学技术、空间技术的发展

对光学零件的精度要求不断的提高

因而出现了新的高精度设备“LP—1000”环形抛光机。本文主要根据我们使用“LP—1000”环形抛光机的实践。分析比较LP—1000环形抛光机与目前使用的“_ⅢP—350”三轴抛光机抛光机理的区别

其中包括两种抛光机的抛光机理、运动分析、受力分析及“LP—1000”抛光模的制造工艺

加工高精度光学零件易发生的问题和解决方法。

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