离子束溅射镀膜技术研究

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离子束溅射镀膜技术研究

更新时间：2025-09-01

- 离子束溅射镀膜技术研究
- A study on ion beam sputtering coating techniqe
- 光学技术 1992年第6期
- 作者机构：
  
  1. 1:北京理工大学工程光学系
  2. 2:北京理工大学工程光学系,100081
  3. 3,100081
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版：1992
- 稿件说明：
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孙雨南, 崔芳. 离子束溅射镀膜技术研究[J]. 光学技术, 1992,(6).

A study on ion beam sputtering coating techniqe[J]. 1992, (6).
孙雨南, 崔芳. 离子束溅射镀膜技术研究[J]. 光学技术, 1992,(6). DOI：

A study on ion beam sputtering coating techniqe[J]. 1992, (6). DOI：

本文介绍了离子束溅射镀膜原理

对淀积束率与离子能量、束流密度的关系进行了实验研究。实验结果与理论分析有较好的一致性。

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